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国际先进光刻技术研讨会在南京浦口区举办
2019/10/17 17:08  交汇点新闻  管鹏飞  

  交汇点讯 10月17日,第三届国际先进光刻技术研讨会在南京浦口区召开,吸引来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校共计400余名专家学者参加。

  

  本次会议为期两天,由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办,中国科学院微电子研究所、南京市浦口高新区和南京市浦口区科学技术局承办,作为国内首个国际高端光刻技术研讨会,已连续举办两届,本届大会延续了往届的高规格和高水准,已成为共享国内外先进光刻技术研发成果,促进我国集成电路制造技术研发与应用,开展合作与交流的高端峰会。

  

  会上,来自Intel、IBM、Mentor等公司的专家做了特邀报告,深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案,内容丰富,包含先进节点的计算光刻技术、设备、材料等。

  随着中国集成电路产业的蓬勃发展,南京市已明确了集成电路产业的总体布局:即 “一核、两翼、三基地”。其中“一核”即指以江北新区为核心,重点打造具有国际影响力的集成电路产业基地。而浦口区便是这“一核”的重要载体。

  

  近年来,浦口正在聚力打造集成电路、高端交通装备、文旅健康三大产业地标,在集成电路方面,已集聚了总投资30亿美元的台积电、800亿元的清华紫光、80亿元的天水华天等产业链上下游关联企业169家,初步形成了设计、制造、封装、测试的全产业链闭环,成功创建“江苏省集成电路产业基地”。

  浦口区区长曹海连表示,今年1-9月,全区集成电路产业实现产值30.5亿元,同比增长89.9%,实现营收28亿元,同比增长84%。“可以说,浦口正处在加速发展的窗口期,后发优势逐步显现,未来发展前景可期,预计到2025年将集成电路产业打造成千亿级产业集群。”

  交汇点记者 管鹏飞

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责编:刘雨菲

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